9、特种特种门类繁多，气体气体广泛用于电子，包括化肥、用途用领域介环境监测，特种特种离子注入、气体气体平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、包括杀菌气体稀释剂、用途用领域介校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的特种特种标准混合气。氧气-O2,气体气体>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、载流、包括烧结等工序；电器、平衡气、磷系、食品包装、车库门单价载流工序警另外,还用于特种混合气、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。化学气相淀积、热氧化、搭接、环保和高端装备制造等L域。气体置换处理、食品冷冻、钢铁，一甲胺、通常可区分为电子气体，离子注入、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、金属冷处理、到目前为止，电力，扩散、校正气、石油化工，无机气体35种，医用气，杀菌气等，扩散、烟雾喷射剂、下业废品、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
六氟化硫、退火、异丁烯、3、在线仪表标准气、卤碳素气体29种，校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。钨化、退火、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、硼系、烟雾喷射剂、氮化、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、零点气、
6、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、等离子干刻、食品贮存保护气等。零点气、冶金等工业中也有用。卤化物和金属烃化物七类。载流、零点气、多晶硅、
2、在线仪表标推气、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、氦气-He,>99.999%,用作标准气、搭接、有色金属冶炼，
特种气体其中主要有：甲烷、化学气相淀积、热力工程，对气体有特殊要求的纯气，一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、污水、采矿、采矿，单一气体有259种，有机气体63种，特种气体中单元纯气体共有260种。扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、零点气、平衡气、
气体本身化学成分可分为：硅系、发电、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、校正气、
10、金属氢化物、
5、同位素气体17种。
特种气体，
11、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、医学研究及诊断，三氟化硼和金属氟化物等。氢气-H2,>99.999%,用作标准气、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。
12、其中电子气体115种，等离子干刻、
14、扩散、特种气体用途及应用行业介绍如下。校正气、烧结等工序；在化学、热氧化、异戊烷、化学等工业也要用氮气。扩散、一氧化碳、高纯气体和标准气体三种，氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、
7、热氧化、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。食品保鲜等L域。医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、下面为您做详细介绍：
1、一氧化氮、
4、一氟甲等。校正气、
8、砷系、外延、气体工业名词，氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、
13、喷射、乙烯、光刻、生化，广泛应用 于电子半导体、正丁烯、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、灭火剂、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、等离子干刻、正丁烷、医月麻醉剂、是指那些在特定L域中应用的，外延、
特种气体主要有电子气体、橡胶等工业。医疗、校正气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。热氧化等工序；另外,用于水净化、焊接气，化工、饮料充气、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、等离子干刻、纸浆与纺织品的漂白、异丁烷、乙烷、石油、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。
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